企業実装が進むローカルLLMと生成AI、成功の鍵を握る「オンプレミス環境」最前線
~国内外の生成AIプラットフォームからフィジカルAIまで~
企業におけるローカルLLM(大規模言語モデル)と生成AIの業務活用が加速しています。特に機密性や柔軟な制御が求められる現場では、オンプレミス環境が導入の鍵を握ります。
そこで本セミナーでは、企業における生成AI活用の実装フェーズに焦点を当てて、国内外の最先端生成AIプラットフォームの動向から、最新のLLMやRAG、チャットボット、フィジカルAIに至るまで、具体的なユースケースやソリューションを紹介します。 また基調講演では、早稲田大学の速水 悟教授が生成AIとローカルLLM活用の過去・現在・未来をたどりながらその広がりや可能性を解説します。
LOB(Line of Business)部門やDX/IT部門それぞれの立場から、導入にあたっての課題や戦略的価値、成功に導くポイントを体系的につかめます。これからの生成AI活用を推進する企業にとって必要な知見をお届けします。

開催概要
| 日時 | 2026年4月23日(木)13:00~14:55 |
|---|---|
| 会場 | Webセミナー |
| 主催 | 日経クロステック Active |
| 協賛 | 日本ヒューレット・パッカード、エヌビディア |
| 受講料 | 無料/事前登録制(先着順) |
| 問い合わせ | 日経BP読者サービスセンター セミナー係 https://www.nikkeibp.co.jp/seminar/atcl/bp/faq/ |
| 備考 | 定員になり次第締め切らせていただきます。 スケジュール・内容は予告なしに変更する場合がございますので、予めご了承ください。 ※フリーアドレス、協賛企業の競合企業にお勤めの方、個人事業主の方などは受講をお断りする場合がございます。予めご了承ください。 |





