競争優位性を高める「大規模オンプレ生成AI」、その理由と今求められる基盤整備
～GPU×水冷で攻める「オンプレ生成AI」、最新の高性能AI基盤の特徴と優位性を徹底解説～
生成AIは、一部門のチャットボットや文書要約ツールといった限定的な用途から、複数部署・事業部にまたがる業務フローの中核、さらには全社のDX／AI統合基盤へと発展する段階に入りつつあります。社外に出せない大量の非構造化データを自社の競争力の源泉として継続的に学習させる、AIエージェントを基幹システムと連携させてプロセス全体を自動化する、遅延が許されない現場でフィジカルAIを稼働させる──。
こうした取り組みには、クラウド単体あるいは小規模なオンプレミス生成AI環境ではなく、最新のGPUや水冷技術を備えた高性能AI基盤を中核とする大規模オンプレミス生成AI環境が、現実的な解になってきました。
そこで本セミナーでは、全社展開を見据えた大規模オンプレミス生成AI環境に焦点を当て、活用領域の広がりや、エヌビディア製GPUと水冷技術を中核とした高性能AI基盤の特徴・優位性をご紹介します。
基調講演では、早稲田大学の速水 悟教授が、先進企業における、いまなぜ大規模オンプレミス生成AI基盤が必要とされているのかを徹底解説します。続くセッションでは、HPEが提供する最新AI向けソリューションを紹介し、エヌビディアの最新のGPUの優位性や、大規模生成AIにおける冷却の重要性について深掘りします。クラウドAIや小規模オンプレミス生成AIでは実現し得なかった世界を、この機会にぜひ体験いただければ幸いです。
開催概要
| 日時 | 2026年9月29日（火）15：00～16：15 |
|---|---|
| 会場 | オンライン |
| 主催 | 日本ヒューレット・パッカード |
| 協賛 | エヌビディア |
| 協力 | 日経クロステック Active |
| 受講料 | 無料 |
| 問い合わせ | 日本ヒューレット・パッカード セミナー事務局 call.hpe@hpe.com |
| 備考 | 定員になり次第締め切らせていただきます。 スケジュール・内容は予告なしに変更する場合がございますので、予めご了承ください。 フリーメールアドレス、競合の場合などお断りする場合がございます。ご了承ください。 日本ヒューレット・パッカード合同会社及び、協賛社の競合となる企業にお勤めの方、個人の方のご参加はお断りさせていただく場合がございます。ご了承ください。 |
プログラム
いまなぜ大規模オンプレ生成AIなのかー暗黙知を競争力に変える基盤整備
登壇者
知覚情報システム研究所
招聘研究員
概要
本講演では、エージェント型AIからフィジカルAIへの進化の中で、なぜ大規模なオンプレ生成AIが企業の競争力を高めるのかを説明します。生成AIは個別の利用から全社展開の段階にあり、企業独自のAIに取り組む先進的な企業が増えています。 独自の技術情報や暗黙知を価値につなぐためには、大規模なオンプレ生成AIによる基盤整備がポイントです。 この講演では、海外を含めた技術動向と今後の方向性を解説します。
熱問題から考える大規模オンプレ生成AI
～水冷GPUの疑問にプロが回答！高発熱インフラの解決策～
登壇者
HPC&AI事業統括本部
第二営業部
HPC&AI事業統括本部
第二営業部
概要
大規模オンプレミス環境での生成AI構築を実現する「HPE AIソリューション」と、その高排熱を支える革新的な「水冷技術」について、実務担当者様からよく頂くリアルな質問をベースに、弊社エキスパートが分かりやすく解説します。
製品ラインナップのご紹介はもちろん、水冷の具体的な仕組みから導入時に必要な検討ポイントまで、実務に役立つ様々な視点でお届けいたします。